Цилиндрическая линза с выпуклой поверхностью плоской формы

Технические характеристики

К цилиндрическим линзам обычно прибегают для фокусировки входящего света на линию или для изменения соотношения сторон изображения. Они, как правило, линейные и контролируют направление светового пучка. Цилиндрическая линза имеет цилиндрическую поверхность, которая позволяет падающему свету фокусироваться в одном измерении и растягивать изображение. Фокусное расстояние цилиндрического зеркала может быть отрицательным или положительным и подходит для генерации лазерной линии или деформации формирующего пучка для циклирования выхода лазера. По сравнению с обычной сферической линзой, производство цилиндрической линзы будет сложнее, поэтому важно разумно выбирать материалы, обращая внимание на текстуру материала, пузыри, примеси, однородность и другие характеристики, а также контролировать качество продукта, например, наличие царапин, вмятин, блеск и высокое качество шлифовки.

Plano Convex цилиндрическая линза фокусирует пучок в одном направлении, но не в другом. Она обычно используется для формирования деформированных пучков, таких как коллимирование и круговое выравнивание выхода лазерных диодов, а также для фокусировки расходящихся пучков в линию.

Плоскопвыпуклые линзы доступны из различных материалов, включая BK7, слияние кварца и др., и могут быть настроены по требуемым размерам, а также покрыты антиотражающими пленками различных длин волн в зависимости от условий использования.

Технические характеристики:

• Структура: Цилиндрическая линза
• Материал: Оптическое стекло, BK7, H-K9L, UVFS, германий, кремний, CaF2, MgF2, ZnSe, ZnS, сапфир.
• Диаметр: 0.35-700 мм
• Допуск по диаметру: +0.00/-0.01 мм
• Качество поверхности: 10-5
• Неровность поверхности: λ/10 при 632.8 нм или по индивидуальному проекту
• Допуск по толщине: +0/-0.02 мм
• Чистая отверстие: более 90% диаметра
• Скос: 0.05-0.5 мм
• Центрация: менее 30 угловых секунд
• Покрытие: Однослойное Mg2, многослойное AR-покрытие
• A: 350-650 нм
• B: 650-1050 нм
• C: 1050-1585 нм
• D: Индивидуальный проект